载板电镀的工艺流程包括：清洁、脱脂、进料、化学处理、水洗、电解沉积、除胶、终检等环节。其中，化学处理是整个工艺流程中重要的环节，其影响电镀效果的因素包括电压、电流、电解质浓度、流速等。
载板电镀是先进封装载板（如 IC 载板、扇出型封装载板等）制造中的核心工艺，其质量直接决定载板的电气性能、可靠性及封装良率。由于载板需实现高密度互连（HDI）、超细线路 / 焊盘（线宽 / 线距常＜20μm）及承载芯片的高可靠性要求，其电镀工艺及质量检测标准远高于传统 PCB，核心围绕 “镀层均匀性、致密度、附着力、纯度” 四大维度展开
镀层微观质量：避免内部缺陷影响可靠性 载板镀层的致密度、纯度直接影响电气性能（如电阻、迁移风险）和耐腐蚀性。 孔隙率： 标准：铜镀层孔隙率≤1 个 /cm²（用酸性硫酸铜溶液测试，孔隙会析出铜粉）；镍层孔隙率≤0.5 个 /cm²； 检测工具：孔隙率测试仪、SEM（观察微观孔洞）。 晶粒结构： 标准：铜镀层晶粒均匀，平均晶粒尺寸 50-200nm（晶粒过粗易导致镀层脆化，过细易产生应力）； 检测工具：透射电镜（TEM）、X 射线衍射仪（XRD）。 杂质含量： 标准：高纯度铜镀层（99.99% 以上），杂质（如 Fe、Zn、Pb）总含量≤50ppm；镍镀层杂质总含量≤100ppm； 检测工具：电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）。
电气性能：保障信号传输与电流承载 载板需满足高频、大电流封装场景，电气性能是核心指标。 镀层电阻： 标准：铜镀层电阻率≤1.72×10⁻⁸Ω・m（接近纯铜理论值，杂质会导致电阻升高）； 检测工具：四探针电阻测试仪。 电迁移抗性： 标准：在 1×10⁵A/cm² 电流密度、125℃环境下，铜镀层电迁移失效时间≥1000h（避免长期使用中因金属迁移导致短路）； 检测方法：JEDEC JESD22-A108 电迁移测试标准。